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氮化硼用于等離子腔體

信息來源:本站 | 發(fā)布日期: 2021-01-21 14:34:09 | 瀏覽量:964331

摘要:

氮化硼陶瓷通過熱壓制成。這種工藝?yán)酶哌_(dá)2000C (3632F)的溫度和高壓有道氮化硼粉末燒結(jié)成為一個(gè)大的緊實(shí)塊體,稱作坯料。這些氮化硼坯可以輕易地被加工成型并且精密加工成復(fù)雜地形狀和光滑地表面。不用青料燒結(jié),研磨,拋光地易加工性使得許多高級工程領(lǐng)域的原型制作,…

氮化硼陶瓷通過熱壓制成。這種工藝?yán)酶哌_(dá)2000°C (3632°F)的溫度和高壓有道氮化硼粉末燒結(jié)成為一個(gè)大的緊實(shí)塊體,稱作坯料。這些氮化硼坯可以輕易地被加工成型并且精密加工成復(fù)雜地形狀和光滑地表面。不用青料燒結(jié),研磨,拋光地易加工性使得許多高級工程領(lǐng)域的原型制作,設(shè)計(jì)更改和認(rèn)證周期都更加容易和快速。除了許多高級陶瓷所共有的熱機(jī)械和電氣特性外,BN 在等離子體環(huán)境中的獨(dú)特之處在于,即使在存在強(qiáng)電磁場的情況下,它還是對濺射的抵抗力和低二次離子生成傾向??篂R射有助于延長組件的使用壽命,而低二次離子生成有助于保持等離子體環(huán)境的完整性。
它已被作為高級絕緣體用于各種薄膜涂層工藝,如等離子體增強(qiáng)的物理氣相沉積 (PVD)。氮化硼陶瓷還用于提高軌道衛(wèi)星上霍爾效應(yīng)推進(jìn)器的性能和服務(wù)長度。
氮化硼陶瓷用于物理氣相沉積
物理氣相沉積是指用于各種材料的表面工程的多種真空薄膜涂層方法。PVD 涂層方法采用多種方法之一,將目標(biāo)材料生成并沉積到基板表面,包括濺射沉積,PVD 涂層方法通常用于光電子器件的制造、汽車和航空航天的精密部件等。
濺射是一個(gè)獨(dú)特的過程,通過持續(xù)的等離子轟擊,粒子被強(qiáng)行從目標(biāo)材料中噴出。氮化硼陶瓷廣泛用于將濺射室中的等離子弧約束到目標(biāo)材料上,并防止工藝室中整體部件的侵蝕。

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