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研究發(fā)現(xiàn)六方氮化硼并不適合用作微型場(chǎng)效應(yīng)晶體管的絕緣體
信息來(lái)源:本站 | 發(fā)布日期: 2021-03-15 12:55:31 | 瀏覽量:961863
幾十年來(lái),微電子技術(shù)的發(fā)展趨勢(shì)是晶體管越來(lái)越小,越來(lái)越緊湊。石墨烯等二維材料在這里被視為希望的燈塔:它們是可能存在的最薄的材料層,只由一個(gè)或幾個(gè)原子層組成,但是,它們可以傳導(dǎo)電流。另一方面,如果硅層變得太薄,傳統(tǒng)的硅技術(shù)就不能正常工作。然而,這類材料不…
漏電流小影響大
晶體管只能比作水龍頭而不是水流,電流是開(kāi)和關(guān)的。與水龍頭一樣,對(duì)晶體管來(lái)說(shuō),閥門(mén)本身沒(méi)有泄漏是非常重要的。
這正是柵極絕緣體在晶體管中所起的作用:它將控制電極與半導(dǎo)體通道本身隔離開(kāi)來(lái),通過(guò)控制電極可以打開(kāi)和關(guān)閉電流,然后電流通過(guò)半導(dǎo)體通道流動(dòng)。一個(gè)現(xiàn)代微處理器包含大約500億個(gè)晶體管,所以即使是門(mén)極上的一點(diǎn)電流損耗也可以發(fā)揮巨大的作用,因?yàn)樗@著地增加了總能耗。
在這項(xiàng)研究中,研究小組通過(guò)實(shí)驗(yàn)和理論計(jì)算研究了流過(guò)薄hBN層的泄漏電流。他們發(fā)現(xiàn),使hBN成為合適襯底的一些特性也顯著增加了通過(guò)hBN的漏電流。氮化硼的介電常數(shù)很小,這意味著這種材料與電場(chǎng)的相互作用很弱。因此,微型晶體管中使用的hBN層必須只有幾個(gè)原子層厚,這樣?xùn)艠O的電場(chǎng)才能充分控制溝道。然而,與此同時(shí),在這種情況下,泄漏電流變得過(guò)大,因?yàn)楫?dāng)減小層厚度時(shí),泄漏電流呈指數(shù)增長(zhǎng)。
尋找絕緣體
“我們的結(jié)果表明,hBN不適合作為基于2D材料的小型晶體管的柵絕緣體。”Tibor Grasser說(shuō)這一發(fā)現(xiàn)對(duì)今后的研究具有重要的指導(dǎo)意義,但它只是為最小的晶體管尋找合適絕緣體的開(kāi)始。目前,沒(méi)有任何已知的材料體系能夠滿足所有要求,但找到合適的材料體系只是時(shí)間和資源問(wèn)題。
特雷西亞·諾布洛赫?qǐng)?jiān)信:“這個(gè)問(wèn)題很復(fù)雜,但這使得許多科學(xué)家致力于尋找解決方案變得更加重要,因?yàn)槲覀兊纳鐣?huì)在未來(lái)將需要小型、快速、最重要的是節(jié)能的計(jì)算機(jī)芯片?!?br />
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